Новости

Новостной портал GADGETPAGE » Новости » ASML объяснила, почему нельзя просто выпустить больше EUV-сканеров даже при огромном спросе

ASML объяснила, почему нельзя просто выпустить больше EUV-сканеров даже при огромном спросе

Спрос на передовое оборудование ASML настолько высок, что дополнительные EUV-сканеры нашли бы покупателей практически сразу. Но даже наличие нескольких миллиардов долларов не позволяет компании быстро увеличить производство. Причина кроется в устройстве самого бизнеса: каждый такой аппарат зависит от огромной сети специализированных поставщиков, которых невозможно одновременно заставить выпускать на 20 % больше продукции.

Глава ASML Кристоф Фуке рассказал, что с компанией работают около 2000 поставщиков, а в её оборудование входят более 100 000 разновидностей компонентов. Если хотя бы один критически важный элемент нельзя производить быстрее, вся цепочка упирается именно в него.


Поэтому простая схема «построить ещё один завод и нанять рабочих» для EUV-литографии практически не работает. Производство нужно увеличивать одновременно у компаний, выпускающих лазеры, оптику, мехатронику и множество других специализированных компонентов. На создание необходимых технологий у некоторых партнёров ушли десятилетия.

Самое любопытное, что эта же зависимость стала одним из главных преимуществ ASML. Компания не пыталась самостоятельно освоить абсолютно все компоненты. Zeiss специализируется на сложнейшей оптике, Trumpf — на лазерных системах, VDL — на мехатронике, а ASML объединяет их разработки в одну машину.

Фуке считает, что без такой модели компания вряд ли смогла бы создать EUV-оборудование вообще. Именно ставка на узкоспециализированных партнёров помогла ASML уйти вперёд от Nikon и Canon, которые остаются заметными производителями литографической техники, но пока не имеют коммерческих EUV-систем.

У этой модели есть обратная сторона. Чем сложнее становится оборудование, тем труднее быстро увеличить его выпуск. По словам главы ASML, если бы проблему можно было решить простым вложением нескольких миллиардов долларов ради роста производства на 20 %, компания сделала бы это без колебаний.

ASML рассчитывает, что EUV-технологии продолжат развиваться ещё многие годы. Следующий этап связан в том числе с системами High-NA EUV, которые используют оптику с большей числовой апертурой и должны позволить формировать на пластинах ещё более мелкие элементы. Поэтому главный барьер для расширения бизнеса ASML сейчас парадоксально совпадает с её главным преимуществом — почти невероятной сложностью оборудования.